Tipkovnice
Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition (Angleško) Področje: Chemistry
Vir: IATE - Evropska unija
Komentiraj slovarski sestavek
Obvestilo o uporabi piškotkov
Trenutno imate izkljopljeno uporabo ne-nujnih piškotkov.
Ta stran uporablja piškotke. Z nadaljevanjem uporabe te strani soglašate z uporabo nujnih piškotkov. Za ne-nujne piškotke podajte izrecno soglasje.
Več o piškotkih
Dostopnost
Dostopnost